精新电源-偏压电源产品列表

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恒功率输出特性功率因数校正本质性抑弧灭弧满足EMC标准行业领先电源效率

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偏压电源

Bias Power Supply

偏压电源在真空离子镀膜工艺中对膜层质量起着至关重要的作用，偏压可显著提升沉积速率、提升膜层与工件的结合力、增加膜层致密性。精新偏压电源可运行于等离子清洗、刻蚀和偏压三种不同的功能模式，适用于等离子体薄膜沉积工艺中的不同流程。

JX-B-D直流偏压

沉积速率快，易拉弧。适用于多数传统镀膜工艺

JX-B-P单极脉冲偏压

频率高达360KHz，可有效提高氧化膜、半导体膜的沉积速率，并能大幅减少打弧次数和能量

JX-B-DP直流叠加脉冲偏压

可有效提高氧化膜、半导体膜的沉积速率，并能大幅减少打弧次数和能量

JX-B-PB双极非对称脉冲

正负脉冲幅值、宽度连续可调，沉积速率低，适合镀硬质高端膜，大幅降低打弧次数和能量

JX-B-FM多波形偏压

多种脉冲波形输出，增加脉冲波形选择灵活性。该电源在恒流模式下可用作溅射电源