JX-HiPIMS-Max：峰值功率 4MW 的国产高功率脉冲磁控溅射电源
HiPIMS（High Power Impulse Magnetron Sputtering，高功率脉冲磁控溅射）在高端 PVD 镀膜中应用越来越广。精新电源自主研发的 JX-HiPIMS-Max 峰值功率 4 MW，是精新 HiPIMS 产品线中规格最高的型号。
一、什么是 HiPIMS
HiPIMS 以很低的占空比（通常百分之几）把平均功率集中到几十微秒的脉冲内，使靶面峰值电流密度达到数 A/cm²，从而让大量溅射出的金属原子在等离子体中电离。与传统中频/直流磁控溅射相比：
▸ 离化程度更高：直流磁控溅射沉积通量中的金属离子通常只有百分之几，HiPIMS 视参数可达数十个百分点，部分条件下超过 50%；
▸ 绕镀性更好：离子可被偏压引导，复杂工件表面覆盖更均匀；
▸ 膜层更致密：有利于硬度、耐磨性与耐蚀性；
▸ 色泽与表面质量好：适合装饰膜和光学膜。
二、JX-HiPIMS-Max 主要特点
1. 峰值功率 4 MW，峰值电流 0～2000 A：为高离化程度提供足够的电流裕量。
2. 电流方波输出：脉冲内电流平稳，工艺重复性好。
3. 点火电压与反向电压：可输出 +50～+750 V 反向电压，用于提高离子能量和沉积速率，并有助于泄放靶面电荷、抑制打弧。
4. PT 动态模式：在恒压、恒流、恒功率之外，Max 版提供 PT 动态模式。
JX-HiPIMS-Max 主要参数（产品页标称）
平均/峰值功率 40 kW / 4 MW；峰值电流 0～2000 A；工作电压 −200～−1000 V，反向电压 +50～+750 V；频率 200～5000 Hz，脉宽 3～100 μs，占空比 0.5%～40%；恒压/恒流/恒功率/PT 动态模式；峰值效率约 96.3%；MTBF ≥100000 h。
JX-HiPIMS-Max 可对标德国霍廷格（TRUMPF Hüttinger）同类型产品，已为国内十多家真空镀膜客户提供服务。
三、典型应用
▸ 3C 电子：金属外壳装饰膜（如玫瑰金色系），色泽饱满、耐磨；
▸ 高端腕表：表壳与表带的耐磨装饰膜；
▸ 硬质功能膜：DLC 类金刚石膜层、刀具与模具表面强化；
▸ 光学薄膜：增透膜、反射膜等精密光学器件镀膜。
四、研发背景
精新电源曾为正负电子对撞机（中科院高能物理研究所）、重离子加速器（中科院近代物理研究所）、第三代同步光源（中科院上海应用物理研究所）提供电源；弧管理方面采用自主研发的微分弧检测、本质弧抑制与四象限弧能量释放管理技术。