ICCG 2026：HiPIMS 出现在“先进真空工艺”议题中
国际玻璃与塑料涂层大会（ICCG）是大面积镀膜领域的重要国际会议，关注建筑玻璃、显示、光伏、光学等大面积和大批量产品的镀膜技术。ICCG 2026 于 2026 年 9 月 15–17 日在德国柏林举办，主题为 “Efficiency in Focus: Unlocking Potentials in Large-Area Coating”（聚焦效率：释放大面积镀膜的潜力）。
在大会的议题设置中，HiPIMS（高功率脉冲磁控溅射）被列入“先进真空工艺（Advanced Vacuum Processes）”方向。正式日程中，该分会场收录了 GroGlass 公司题为 Scaling HiPIMS for Enhanced Large-Area TiO2 Deposition and Coating Durability 的报告，讨论 HiPIMS 在大面积 TiO2 沉积中的放大与膜层耐久性 [1]。
一、为什么大面积镀膜开始关注 HiPIMS
大面积镀膜长期以直流/中频磁控溅射为主，优势是速率高、成本低。HiPIMS 的吸引力在于：
▸ 离化程度高：沉积通量中金属离子比例远高于直流磁控溅射，配合偏压可以调控离子能量；
▸ 膜层更致密：有利于提高硬度、耐磨性和耐候性；
▸ 无电弧蒸发的液滴问题：与电弧离子镀相比，表面大颗粒更少，适合对外观和光学质量要求高的产品；
▸ 代价：同平均功率下沉积速率偏低，放大到大面积时需要解决速率、均匀性与电源容量问题——这也是大会讨论“放大（Scaling）”的原因。
二、电源侧的关注点
把 HiPIMS 用到大面积或量产线上，电源需要同时满足高峰值功率、稳定的脉冲波形和可靠的弧管理。精新 JX-HiPIMS-Max 峰值功率 4 MW，电流呈方波输出，具备点火电压与反向电压功能，可对标德国霍廷格（TRUMPF Hüttinger）同类型产品。
JX-HiPIMS-Max 主要参数（产品页标称）
平均/峰值功率 40 kW / 4 MW；峰值电流 0～2000 A；工作电压 −200～−1000 V，反向电压 +50～+750 V；频率 200～5000 Hz，脉宽 3～100 μs，占空比 0.5%～40%；恒压/恒流/恒功率/PT 动态模式；峰值效率约 96.3%；MTBF ≥100000 h。
三、典型应用方向
▸ 3C 电子：金属外壳装饰膜（如玫瑰金色系）；
▸ 高端腕表：表壳、表带的耐磨装饰膜；
▸ 硬质功能膜：DLC 类金刚石膜、刀具与模具涂层；
▸ 光学器件：增透膜、反射膜。
精新电源有十余年粒子加速器电源研发经验，曾为正负电子对撞机（中科院高能物理研究所）、重离子加速器（中科院近代物理研究所）、第三代同步光源（中科院上海应用物理研究所）等大科学装置提供电源，目前已为国内十多家真空镀膜客户提供 HiPIMS 解决方案。
参考资料
[1] ICCG 2026 Program (update 19.06.2026), Session 1: Advanced Vacuum Processes. iccg-events.com